Sylabus
1. Ideální a reálný povrch pevné látky. Krystalická struktura, čistota, získávání atomárně čistých povrchů, adsorpce, desorpce, elektronová struktura povrchů, typy vazeb, elektronegativita, princip metod zkoumání povrchů.
2. Výstupní práce. Teorie, závislost na druhu látky a vnějších vlivech, měření a praktický význam výstupní práce.
3. Morfologie povrchů: elektronová mikroskopie SEM, TEM, rastrovací tunelová mikroskopie STM, mikroskopie atomárních sil AFM.
4. Příprava definovaných povrchů a tenkých vrstev s charakteristickými rozměry řádu nanometrů.
5. Struktura povrchů a jejich chemický stav: metody elektronových a iontových spektroskopií. Fyzikální principy metod a příklady jejich použití. Základy fotoelektronové spektroskopie – využití rentgenového a synchrotronového záření. Interakce iontů s povrchem, iontové spektroskopie ISS a SIMS.
6. Krystalografická struktura povrchů: metody elektronové difrakce (LEED a RHEED), difrakce fotoelektronů, aplikace.
Anotace
Přednáška se zabývá specifickými vlastnostmi povrchů a metodami přípravy povrchů pro moderní technologie, přípravou spojitých a nespojitých deponovaných vrstev s charakteristickými rozměry řádu nanometrů. V přednášce se seznámíme s nejdůležitějšími experimentálními metodami výzkumu a charakteristiky čistých povrchů, ultra tenkých vrstev a nanostruktur (elektronová struktura, krystalografická struktura, morfologie, chemický stav).