Sylabus
1. Základy: vakuum, nízkoteplotní plazma, tenké vrstvy, nanočástice.
2. Nanášení tenkých vrstev pomocí vakuového napařování: Knudsenova cela; napařování elektronovým svazkem, pulsní laserová depozice.
3. Fyzikální a technické základy stejnosměrného a vysokofrekvenčního naprašování; depozice pod šikmým úhlem (GLAD); planární a cylindrické magnetrony; reaktivní magnetronové rozprašování, High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS).
4. Plazmatem podpořená chemická depozice z plynné fáze, plazmová polymerace.
5. Příprava nanoklastrů a nanočástic pomocí agregace v plynné fázi; plynové agregační zdroje nanočástic.
6. Morfologie a povrchová statistika tenkých vrstev: drsnost, korelační délka, kritické exponenty.
7. Modely růstu tenké vrstvy: nukleace, růst a koalescence ostrůvků, strukturální zónové modely, diskrétní modely vs. kontinuální rovnice.
8. Přehled nevakuových metod přípravy tenkých vrstev.
9. Přehled metod charakterizace tenkých vrstev.
Anotace
Fyzikální principy metod přípravy tenkých vrstev ve vakuu: vakuové naprašování, stejnosměrné a vysokofrekvenční naprašování, plazmové depozice anorganických a organických vrstev, přehled nevakuových depozičních metod.