Introduction to deposition and characterization of thin films

Syllabus

1) Definition of terms thin layer, low-temperature plasma, vacuum

2) Introduction to the issue of vacuum deposition of thin films - evaporation, magnetron sputtering, reactive magnetron sputtering, plasma polymerization

3) Measurement of optical properties and thickness of thin films - spectroscopic ellipsometry

4) Methods of chemical analysis of surfaces - XPS, FTIR, EDX

5) Investigation of surface morphology - AFM, SEM

6) Measurement of mechanical properties using nanoindentation

7) Measurement of wettability and surface energy

Annotation

V rámci předmětu se studenti seznámí se základy přípravy tenkých vrstev s využitím nízkoteplotního plazmatu a s jejich charakterizací. Po teoretickém úvodu do problematiky bude výuka probíhat přímo v laboratořích KMF, kde se studenti seznámí s prací na automatizované depoziční aparatuře umožňující přípravu tenkých vrstev kovů, oxidů kovů a plazmových polymerů.

Předmět má experimentální charakter.