Sylabus
*
1. Metody přípravy tenkých vrstev -fyzikální metody Vakuové napařování (rovnovážný tlak par, rychlost vypařování, směrovost vypařovadel, realizace vypařovadel, vypařování sloučenin a slitin, vypařování elektronovým svazkem, MBE). Naprašování (základní představy, naprašovací systémy, magnetron, srovnání napařování a naprašování). Laserová ablace. Ablace elektronovým svazkem. Depozice ionizovaných klastrů. *
2. Metody přípravy tenkých vrstev -chemické metody CVD (dekompozice, disproporciace, transportní reakce,VLPCVD, PECVD, MOCVD). Anodická oxidce, LB vrstvy. *
3. Metody měření depoziční rychlosti a tloušťky tenkých vrstev Měření v proudu par. Metoda kmitajícího krystalu. Optické metody (Tolanského metoda, FECO, spektrální odrazivost). *
4. Techniky studia morfologie vrstev a povrchů TEM, SEM, STM, AFM, LEEM, FIM, FEM. *
5. Metody pro určení struktury a složení tenkých vrstev Difrakční metody. Spektroskopie. Interakce s ionty (RBS, SIMS). *
6. Příprava substrátů Chemické ošetření. Leptání.Žíhaní. *
7. Litografie, maskování a vytváření nanostruktur Iontové leptání. Selektivní leptání. Využití fotorezistů. *
8. Vlastnosti TV Měření tvrdosti, adheze a vodivosti TV.
Anotace
Nejnutnější přehled z vakuové fyziky a termodynamiky. Mody a fáze růstu tenkých vrstev.
Přehled metod pro přípravu tenkých vrstev - CVD metody, vakuové napařování, naprašování vrstev, laserová ablace, ablace elektronovým svazkem, principy, příklady použití a porovnání. Metody měření depoziční rychlosti a tloušťky tenkých vrstev.
Metody pro studium morfologie a složení TV. Adheze a tvrdost TV.
Metody přípravy a čištění substrátů pro TV technologie. Vytváření definovaných TV struktur - maskování, litografie.