Abstrakt
Byly studovány změny oxidačního stupně povrchu oxidu ceru způsobené depozicí rhodia a interakcí s molekulami plynů. Jako podložky jsme použili orientované vrstvy CeO2(1 1 1)/Cu(1 1 1).
Připravené vzorky jsme exponovali molekulami CO aH2O. Měřili jsme fotoelektronová spektra vnitřních hladin, valenčního pásu a rezonanční spektra po každém experimentálním kroku a porovnávali jsme vývoj sledovaných parametrů s ohledem na to, zda před depozicí rhodia byl povrch oxidu ceru plně oxidovaný nebo částečně redukovaný.
Rezonanční spektroskopie se ukazuje jako velice citlivý nástroj při sledování malých změn oxidačního stupně povrchu a prokázali jsme pomocí ní dlouhodobý vliv původního stavu podložky před depozicí rhodia na vývoj oxidačního stupně zkoumaného systému při adsorpci plynů.