Výzkum časové závislosti naprašování v duálním vysokovýkonovém impulsním magnetronu s uzavřeným magnetickým polem během depozice tenkých vrstev Ti-Cu

Abstrakt

Je prováděno srovnání časových závislostí naprašování v duálním magnetronu a v duálním vysokovýkonovém impulsním magnetronu s uzavřeným magnetickým polem.

Klíčová slova

• Dual-MS
• dual-HiPIMS
• Langmuirova sonda
• tenké vrstvy Ti-Cu