Chemicko-mechanické leštění monokrystalů CdTe and Zn(x)Cd(1-x)Te pomocí leptadel H2O2(HNO3)-HBr-organické rozpouštědlo

Abstrakt

Bylo zkoumáno chemicko-mechanické leštění povrchu monokrystalů CdTe a ZnxCd1-xTe pomocí kompozicí založených na vodných roztocích H2O2 (HNO3)-HBr-rozpouštědlo uvolňujících brom. Byly stanoveny závislosti rychlosti chemicko-mechanického leštění na zředění báze leptadla pro různé organické složky.

Stav povrchu po takovém leptání byl vyšetřován pomocí profilometrie.

Klíčová slova

• Chemical-Mechanical
• Polishing
• Single
• Crystals
• -HBr-Organic
• Solvent
• Etchant
• Compositions