Abstrakt
Předkládaná studie se zabývá výzkumem adsorpce a desorpce metanolu na povrchu tenké vrstvy CeO2(111)/Cu(111) metodami XPS a SRPES. K určení obsazení stavu Ce 4f byla použita vysoce citlivá metoda rezonanční fotoelektronové spektroskopie.
Metanol adsorbovaný při teplotě 110 K vytvářel vícevrstvé adsorbáty, které částečně desorbovaly při 140 K. Při desorpci za nízké teploty docházelo k vytváření chemisorbovaných methoxy skupin.
Metanol silně redukoval oxid ceru za vzniku hydroxylových skupin, což se zvyšující se teplotou bylo následováno vytvářením kyslíkových vakancí ve svrchní vrstvě oxidu ceru díky derorpci molekul vody. Disociativní adsorpce metanolu a vytváření kyslíkových vakancí bylo pozorováno jako přechod Ce4 -Ce3 a zvýšení obsazení stavu Ce 4f.