- Diagnostics of Reactive HiPIMS Discharge Assisted by ECWR Plasma2021 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Výzkum časové závislosti naprašování v duálním vysokovýkonovém impulsním magnetronu s uzavřeným magnetickým polem během depozice tenkých vrstev Ti-Cu2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Structure and properties of Hf-O-N films prepared by high-rate reactive HiPIMS with smoothly controlled composition2017 | Matematicko-fyzikální fakulta
- High Power Impulse Magnetron Sputtering: Current Research and Diagnostic2019 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Deposition of rutile (TiO2) with preferred orientation by assisted high power impulse magnetron sputtering2013 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Time-resolved Langmuir probe investigation of hybrid high power impulse magnetron sputtering discharges2013 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Investigation of the magnetron balancing effect on the ionized flux fraction and deposition rate of sputtered titanium species for the high-power impulse magnetron sputtering pulses of different lengths2023 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Influence of the magnetic field on the extension of the ionization region in high power impulse magnetron sputtering discharges2023 | Ústřední knihovna
- Plasma Diagnostics in Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering System Working in Ar + H2S Gas Mixture2020 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Highly ionized physical vapor deposition plasma source working at very low pressure2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Plasma diagnostics of low pressure high power impulse magnetron sputtering assisted by electron cyclotron wave resonance plasma2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Magnetron sputter deposition of silver onto castor oil: The effect of plasma parameters on nanoparticle properties2021 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Time-Resolved Diagnostics of Dual High Power Impulse Magnetron Sputtering With Pulse Delays of 15 us and 500 us2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Investigation of ionized metal flux in enhanced high power impulse magnetron sputtering discharges2014 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Investigation of Tin Removal for Liquid Metal Tokamak Divertor by Low Pressure Argon Arc with Hot Tungsten Cathode System2023 | Matematicko-fyzikální fakulta